汪正国将其拿到开阳半导体，并用于指导微处理器开发也同样适用。
既然现在顶级的开阳905处理器已经投入生产，开发新一代开阳910就是必不可少，摩尔定律表明每一年半左右的时间就能实现一次产品迭代，而这在2010年之前还是很准。
至于910的发布时间大概能够定在什么时候，这问题就真不是汪正国所能够决定，至少在工艺设备方面，开阳现在正同美国硅谷公司、尼康、感动能、阿斯麦接触，洽谈关于采购关于07微米光刻机事项。
但结果似乎还并不太乐观，毕竟这已经是当前时代最先进的光刻机工艺技术，来自这些公司所在地政府出口审查一直卡着，到底能不能采购到，这还是一个问题。
反正汪正国是不觉得这些设备能够在89年的上半年之前交付，毕竟就算谈成采购，同样还存在设备生产周期问题。
至于国内配套设备研发，目前还正在努力向905处理器生产所使用1微线宽进军，乐观估计，倒是有可能在89年投产的开阳605处理器生产上面用到。
至于说开发07微米线宽光刻技术，那可能就要等到90年或者91左右，这实际也意味着国内光刻机产业目前是落后国际先进水平整整一个代差。
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